納米真空均質機

簡要描述：納米真空均質機是由真空系統(tǒng)和均質機組成，一個真空罐體和管線式均質機相結合，真空罐內(nèi)可以根據(jù)物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為CR2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的Z理想乳化設備，CR2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，乳化效果。

產(chǎn)品型號： CR2000

所屬分類：納米均質機

更新時間：2025-11-20

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 納米真空均質機是由真空系統(tǒng)和均質機組成，一個真空罐體和管線式均質機相結合，真空罐內(nèi)可以根據(jù)物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為CR2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的乳化設備，CR2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，乳化效果。

影響分散乳化結果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

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